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計劃投資557億元用于采購ASML EUV 光刻機
荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究所(TNO)韓國代表Byung-
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解釋稱說:“通常情況下,半導(dǎo)體工藝可以將每臺機器的10%用于工藝研發(fā)和測試,擁有100臺機器則意味著它們可以全天候用于研發(fā)。”
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??? 2年前
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